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超純水設(shè)備助力半導(dǎo)體元器件高質(zhì)量生產(chǎn)

　　在現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的浪潮中，電子元器件作為核心基礎(chǔ)零部件，占據(jù)著戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵地位，是支撐各類新興產(chǎn)業(yè)前行的重要基石。近年來，電子元器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展勢頭極為迅猛，產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張的同時，質(zhì)量效益也顯著提升，為經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入源源不斷的強(qiáng)勁動力。

　　電子元器件產(chǎn)業(yè)鏈的上游涵蓋多種重要原材料，像光電材料、半導(dǎo)體材料、磁性材料等。在半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)節(jié)，超純水的身影無處不在，從晶圓沖洗、化學(xué)稀釋，到化工機(jī)械研磨，再到潔凈室環(huán)境的加濕等眾多場景，都離不開超純水的參與。超純水的質(zhì)量優(yōu)劣，直接與半導(dǎo)體的良品率掛鉤，對半導(dǎo)體元器件的生產(chǎn)質(zhì)量起著決定性作用。以超純水設(shè)備為例，其采用獨特的靶向離子交換系統(tǒng)，能夠有效去除超純水中的硼離子，使硼離子含量維持在極低水平，同時還能持續(xù)穩(wěn)定地產(chǎn)出高純度超純水。憑借出色性能，該設(shè)備在晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍、試劑稀釋、氟化工等多個領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

　　超純水設(shè)備融合了反滲透系統(tǒng)、EDI 裝置以及拋光混床工藝，能近乎完全去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，同時將水中的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物降低到極低含量。設(shè)備的 EDI 處理裝置產(chǎn)生的廢水較少，對環(huán)境友好，具備較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益。經(jīng)過技術(shù)升級的精混床，運行更加穩(wěn)定，無需復(fù)雜操作就能確保出水水質(zhì)符合芯片生產(chǎn)用水標(biāo)準(zhǔn)，為企業(yè)有效降低生產(chǎn)成本。

　　超純水設(shè)備產(chǎn)出的超純水，滿足 ASTM D5127 - 13 中 E1.3 水質(zhì)指標(biāo)，完全契合半導(dǎo)體元器件生產(chǎn)的用水需求。憑借持續(xù)穩(wěn)定制備高品質(zhì)超純水的能力，超純水設(shè)備有力推動半導(dǎo)體企業(yè)的發(fā)展，助力企業(yè)在激烈的市場競爭中脫穎而出，提升市場競爭力。