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超純水設(shè)備——芯片制造的幕后英雄

　　隨著半導(dǎo)體技術(shù)的快速發(fā)展，芯片制造對(duì)水質(zhì)的要求越來(lái)越高。超純水(UPW)是芯片制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵資源之一，其純凈度直接影響到芯片的質(zhì)量和性能。本文將詳細(xì)介紹采用反滲透、EDI裝置結(jié)合混床模塊化設(shè)計(jì)工藝制備的超純水設(shè)備在芯片制造中的應(yīng)用及其諸多優(yōu)勢(shì)。

超純水設(shè)備

　　超純水設(shè)備的核心工藝

　　反滲透(RO)：反滲透膜是一種半透膜，能夠有效去除水中的溶解鹽、有機(jī)物、膠體、細(xì)菌和病毒等雜質(zhì)。反滲透技術(shù)通過(guò)高壓將水分子從濃溶液一側(cè)推送到稀溶液一側(cè)，實(shí)現(xiàn)高效的凈化。

　　電去離子(EDI)：電去離子技術(shù)通過(guò)電解作用去除水中的離子，進(jìn)一步提高水質(zhì)的純凈度。EDI系統(tǒng)通常與反滲透系統(tǒng)結(jié)合使用，以達(dá)到更高的純度標(biāo)準(zhǔn)。

　　拋光混床模塊化設(shè)計(jì)：混床是一種由陽(yáng)離子交換樹(shù)脂和陰離子交換樹(shù)脂混合組成的離子交換裝置。它能夠進(jìn)一步去除水中的微量離子，確保出水的高純凈度。拋光混床模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和更換，提高了系統(tǒng)的可靠性和靈活性。

　　超純水設(shè)備的優(yōu)勢(shì)

　　1.高純凈度：采用反滲透、EDI裝置結(jié)合拋光混床模塊化設(shè)計(jì)工藝，超純水設(shè)備可以制備出電阻率高達(dá)18 MΩ*cm(25℃)的超純水，完全符合芯片制造的高純凈度要求。

　　2.環(huán)保：優(yōu)化的水處理工藝減少了廢水排放量，提高了水資源的利用率;能量回收裝置將廢水中的熱能進(jìn)行回收再利用，降低了能耗，符合可持續(xù)發(fā)展的理念。

　　3.經(jīng)濟(jì)：模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和更換，降低了運(yùn)行成本；自動(dòng)化控制系統(tǒng)減少了人工干預(yù)，提高了生產(chǎn)效率，降低了運(yùn)營(yíng)成本。

　　隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)水質(zhì)的要求也越來(lái)越高。超純水設(shè)備憑借其高效、可靠的性能，將在未來(lái)繼續(xù)發(fā)揮重要作用，為芯片制造提供強(qiáng)有力的支持。

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　　編輯：虞美人  技術(shù)：木子